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  • 产品名称：HORIBA堀场光罩/掩膜颗粒去除设备

  • 产品型号：RP-1系列
  • 产品厂商：HORIBA堀场
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简单介绍：
RP-1 通过空气（或 N2）和真空抽吸自动去除光罩/掩膜上的颗粒。 在光刻工艺前定期去除颗粒可延长薄膜的更换周期和掩膜的清洗周期，从而降低运行成本。
详情介绍：
  • 减少操作人员的日常工作，防止人为损坏薄膜
  • 消除人工操作，防止静电放电损坏
  • 在光罩存储设备中存储掩膜的前后去除颗粒，可以延长掩膜寿命

 

  
           

  • 结合 PR-PD 系列光罩/掩膜颗粒检测系统，可确认去除颗粒后光罩/掩膜的状态。
  • 适用案例 尼康/佳能/Smidf 术语/Hariba
    吞吐量 同时吹扫玻璃和薄膜表面以去除颗粒约 1 分钟。
    尺寸 1190（深） x 1150（宽） x 1520（高）毫米


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