江西中部地区办事处推荐HORIBA堀场光谱仪EV 2.0

日期：2025-05-31 11:07

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摘要：基于光发射光谱和 MWL 干涉测量法的工艺终点/反应腔健康监测为满足使用干法蚀刻、等离子清洗和等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）加工半导体、照明设备、汽车部件、平面显示屏、MEMS 传感器、存储芯片和逻辑电子产品的新要求，HORIBA 推出了一款传感器，专门用于先进终点控制、故障检测和腔室健康监测。

EV 2.0 是一款高性能光谱仪，专为各种半导体原始设备制造商（OEM）和*终用户应用定制，包括具有自动终点配方创建功能的工艺工程，以及执行完整终点和过程质量管理的机上处理。

EV 2.0 专用于单腔室或多腔室配置下的光发射光谱（OES）或多波长干涉测量（INT）终点过程实时监测。

EV 2.0 光谱仪

系统概要

这款小型光谱仪基于具有 20 mm 焦距（LR）或 75 mm 焦距（STD， HR）和 50 μm 狭缝的凹面全息光栅（像差校正）。光谱仪连接到工具室的窗口或通过 SMA 光纤连接。
3 种型号的光谱仪：

LR：低分辨率
STD：标准分辨率
HR：高分辨率
其他 on requests

光栅

HORIBA 像差校正凹面光栅

探测器

BT CCD
制造商：滨松光子学株式会社

电子学

BT CCD 电子
制造商：HORIBA， Ltd.
型号：JY70
16bit 采集电子
曝光时间：1 ms ~ 10 sec

安装了
以下端口 1.LAN 以太网 100Mbps RJ45 （TCP/IP）
2.IOR 70 远程 Db25 PIO-RS
3.直流电源：9 至 24V，标准 24V

光谱仪 LR

型号： EV2.0 LR （Low Resolution）

波长范围 300nm~ 900 nm
焦距：20mm
分辨率：6.5 nm
尺寸（毫米）：55.1 宽 x 133.5 x 139.6 高
重量（kg）：0.5 kg（不含盖子）（盖子：+0.15kg）

光谱仪 STD

型号： EV2.0 STD（标准分辨率）

波长范围 200nm~ 1050 nm
焦距：75mm
分辨率 2.5 nm
尺寸（毫米）：110.3 宽 X 133.5 X 139.6 高
重量（kg）：1 kg（不含盖子）（盖子：+0.15kg）

光谱仪 HR

型号： EV2.0 HR （High Resolution）

波长范围 300nm~ 800 nm
焦距：75mm，Czerny-Turner
分辨率：低至 1.0 nm
尺寸（毫米）：110.3 宽 X 133.5 X 139.6 高
重量（kg）：1.1 kg（不含盖子）（盖子：+ 0.15kg）

远程

EV 2.0 可以通过带有 RJ 45 连接器的数字链路连接到任何主机：TCP/IP。

EV 2.0 光谱仪包含一个接口板，用于在 HOST / Tool 的主机控制器硬件与光谱仪主电子设备之间提供电流隔离。

标签	描述	插头类型
远程	PIO、RS、模拟 0-5V	母 DB25

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这允许通过逻辑布线进行通信，快速、确定性地使用完全光耦合器和功率尖峰隔离，这在工业制造环境中很常见

认证

那

集成

3U 集成或与 HORIBA Blue 封面独立

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Windows 10 PRO，64 位 PC 控制器

直流电源	24V
固态硬盘	256 Go，2,5“ SATAIII
设计	铝制框架，无风扇设计抗震和抗震
连接	RS-232/422/485 RS-232 USB 3.0 标准 2x RJ45 Gb VGA、HDMI ...

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标准 PC （默认）
中央处理器	64 位，Intel® Pentium® N4200,2.5 GHz
公羊	4Go DDR3 内存
控制器尺寸	197 （W） x 110 （D） x 55 （H）毫米
控制器质量	2 公斤

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** PC（可选）
中央处理器	64 位，英特尔®酷睿™ i7-7700T 2,9 GHz
公羊	8Go DDR4 2133兆赫
控制器尺寸	264 （W） x 96.4 （D） x 186.2 （H）毫米
控制器质量	4.5 千克

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选择

直读光谱附件（腔室侧窗）	适配 1：DIN75 法兰适配器适配 2：UV、SMA 光纤，默认 2m 适配 3：KF40 聚光镜
干涉测量附件（腔室顶部窗口）	适配 1：KF25 倾斜式聚光镜适配 2：UV、Y SMA 光纤，默认 2m 适配 3：闪光灯
光谱仪和 PC 附件	直接连接工具 24 VDC <1A，20W 用于光谱仪 <4A，80W 用于 PC 外部电源 AC 100-240V->24VDC， 5A HDMI 屏幕、鼠标、键盘
软件	3 种软件选择 EV 2.0 PC：Sigma_P，RD 2.0 用于工程和生产 EV 2.0 SMART：自动驾驶实现大规模生产 EV 2.0 API：集成商的 SDK
各种配置	OES 或干涉测量法 EV 2.0 用于单腔集成 EV 2000/2006 用于集成多达 6 个腔室的集群工具 EV 2.0 + LEM 相机，用于在一个腔室中进行双传感器监控

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环境的

工作温度/湿度	温度：18°C~50°C 湿度：0~70%RH （无结露）
运输温度/湿度	温度：-20°C~55°C 湿度：0~70%RH （无结露）

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